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日本ATA渦輪多涂機(jī) AT-901的特點(diǎn)及使用案例分析
日本ATA渦輪多涂機(jī) AT-901的特點(diǎn)及使用案例分析
特征
可實(shí)現(xiàn)高倍率觀察所需的Cr（粉末）飛濺。
特殊的快門功能可抑制對(duì)樣品的熱損傷。
排氣泵內(nèi)外無(wú)油污。
<選項(xiàng)>
碳涂層附件（選項(xiàng)）可形成碳膜
等離子清洗（主機(jī)選項(xiàng)）可去除有機(jī)異物和表面演化處理。
規(guī)格
| 濺射 法 | 直流磁控濺射 放電電壓：DC 1500V max 放電電流：DC 50mA max |
| 目標(biāo)（單獨(dú)出售） | 有多種靶材可供選擇，例如 Cr、Pt、Au、Au-Pd |
| 使用的氣體 | 空氣，氬 |
| 達(dá)到真空壓力 | 十 |
| 腔室尺寸 | φ100mm |
| 樣品架 | φ50毫米 |
| 真空排氣 | 主排氣：渦輪微型泵（內(nèi)置于主體） 輔助排氣：隔膜泵（外置） |
| 尺寸 | 主機(jī) 360W x 417D x 380H |
| 重量 | 機(jī)身約 20kg 隔膜泵 4kg |
| 電源供應(yīng) | AC 100V / 200V（工廠選擇） 5A 15A（碳編碼附件單獨(dú)出售） |
涂層示例
◆ 不平整樣品的圖像（濾紙表面）（SEM圖像）
放大倍率 x 5,000 倍
放大倍率 x 5,000 倍
載玻片涂層樣品
◆ 涂膜顆粒度差異示例（AFM 圖像）
◆ 碳薄膜的TEM觀察圖像
在玻璃基板上蒸鍍碳，觀察因真空度的不同而產(chǎn)生的蒸鍍狀態(tài)的差異（TEM圖像）。
至于碳?xì)庀喑练e的狀態(tài)，可以看出在0.02Pa氣氛中的顆粒比在2Pa氣氛中更細(xì)。
（放大倍數(shù)為 200,000 倍）
真空度 = 2Pa（我們的較低型號(hào)）
真空度=0.02Pa（本裝置）
產(chǎn)品目錄
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